Stage – Développements logiciels EBIOS RM 2018 F/H
Referenz 2023-14591
Praktikum
La Defense, Paris (75)
TA - DESIGN & ENGINEERING
In Ausbildung / Berufseinstieg
Barème Alternance, Stage et VIE
Ihre Missionen
Créée en 1995 par l’ANSSI, la méthode EBIOS (Expression des Besoins et Identification des Objectifs de Sécurité) permet d’apprécier et de traiter les risques relatifs à la sécurité des systèmes d’information (SSI). Elle permet aussi de communiquer à leur sujet au sein de l’organisme et vis-à-vis de ses partenaires, constituant ainsi un outil complet de gestion des risques SSI. L’ANSSI a publié en 2018 une mise à jour de cette méthode : EBIOS Risk Manager.
L’équipe de cybersécurité I&C a développé un outil support de la méthode d’analyse de risques EBIOS RM 2018. Le stage doit permettre d’apporter à la version existantes différentes amélioration.
Le stage inclus les activités suivantes :
- Formation à la méthode EBIOS RM 2018
- Etude et compréhension d’une base applicative existante
- Conception et implémentation de l’interface au sein de l’outil
- Développement des fonctionnalités spécifiées
- Tests et validation
- Rédaction de documentation technique pour les rapports d’étude
Sie sind
Vous préparez une formation de niveau Bac+5 en école d’ingénieurs ou équivalent universitaire avec une dominante en informatique / cybersécurité.
Compétences requises :
- Développement logiciel en VBA et python
- Maitrise de l’environnement de développement VBE et Visual Studio
- Usage et des connaissances avancée de la partie développeur de Microsoft Office (Excel, Access, Word, Visio)
- GitLab
- UML
Une culture sur la cybersécurité est un plus.
Zusätzliche Informationen
Spezialität: TAL - Sicherheitsleittechnik
Bildungsstufen (alle) Master/Diplom
Ort : Frankreich, Ile-de-France, Paris (75), La Defense
Reisen: Nein
Beschäftigungsniveau: Student
Von der Verwaltung untersuchter Posten: Oui
Entdecken Sie Framatome
Framatome baut Kernkraftwerke und liefert Ausrüstung, Dienstleistung und Brennelemente für hohe Sicherheit und Leistung.